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ue4編譯反射捕獲渲染不出來

發布時間: 2023-05-29 06:22:44

❶ ue4bsp無法反射

在非光追模式下,引擎的渲染皮侍方式為截圖後計算折射。
非光追下的折射效果有很大的局限性,應該盡量避免使用。如果效果需要添加折射,則應控制薯孫材質的應用場合。根據實際應用場景調整折射率,同時使用多個半透明介質需控制視線重疊的bug等。
且光照模式只能選擇上述的兩種,不然無法添加燃手吵金屬感,實際觀感很差,沒有光澤。
拓展資料:
fresnel函數:對於曲面形狀,如果只應用折射的話,不同角度的縮放效果是一樣的,這和實際不符。
為了模模擬實世界的縮放效果,需要使用fresnel函數+lerp調整不同角度的折射率。

❷ ue渲染就第一幀有問題

使用RenderDoc在編輯器中捕捉了一幀。一個實際游戲里的渲染流程和這個可能不一樣,但通過捕捉到的數據我們可以粗略地窺見UE4是怎麼渲染一幀的。

聲明:以下分析基於GPU捕捉數據以及UE 4.17.1的渲染器代碼,(作者)本人先前沒有使用UE的經驗。如果我漏掉了什麼東西,請在評論中讓我知曉。

幸運的是UE4的draw call列表非常整潔,並且有良好的注釋,這會使我們分析起來更簡單。如果你的場景中缺了些材質或者你的渲染質量設置得較低,你捕捉到的draw call列表可能和我的不一樣。例如如果你的場景中沒有粒子效果,那麼ParticalSimulation這個 render pass就不會出現。

SlateUI這個pass包括了所有UE編輯器用於渲染UI的渲染調用,這一部分本文將會忽略,重點關注Scene下的所有render pass。

粒子模擬
UE4的一幀以ParticleSimulation pass開始。這一步在GPU上計算了場景里所有的粒子發射器(emitter)的粒子運動以及其他屬性,並將結果輸出到兩個渲染目標(rendertarget)上,一個格式為RGBA32_Float,保存位置,另一個為RGBA16_Float,保存速度以及其他一些和粒子時間/生存周期相關的數據。下圖展示了RGBA32_Float格式的渲染目標保存的數據,每一個像素代表了一個sprite的世界坐標。

我在場景中添加的粒子效果似乎有兩個emitter在GPU上模擬時不需要進行碰撞檢測,所以可以在每一幀較早的時候運行其對應的render pass。

Z-Prepass
接下來就是PrePass流程,這一步其實就是z-prepass,將所有不透明物體渲染到一個R24G8的深度緩沖中。

值得注意的是UE4使用reverse-Z來保存深度,意味著近裁面的深度值為1,遠裁面的深度值為0。這使得深度緩沖的精度更高,避免在遠處發生z-fighting的現象。從該pass的名字可以看出這一步是由「DBuffer」觸發的。DBuffer是UE4用來保存延遲貼花(deferred decal)的緩沖,這一步需要場景深度,所以會啟動Z-prepass。這個Z-buffer還會用在其他地方,例如遮擋檢測和屏幕空間反射,這些我們會在之後提及。

Draw call列表中的一些渲染pass似乎是空的,例如ResolveSceneDepth,這一步我猜測是用於那些需要在使用紋理前resolve渲染目標的平台(PC平台不需要);悉拆又比如ShadowFrustumQueries,這一步看起來是個傀儡標記,因為真正的陰影遮擋測試發生在寫一個渲染pass中。

遮擋檢測
BeginOcclusionTests負責一幀中所有遮擋測試。UE4默認使用硬體遮擋查詢(hardware occlusion queries)來進行遮擋測試。簡而言之分為3步:

將所有被標記為遮擋體的物體(例如一個較大的solid mesh)渲染進一個深度緩沖。
創建一個遮擋查詢(occlusion query),提交該查詢並渲染那些我們希望查詢遮擋情況的模型。這一步使用硬體深度測試(z-test)以及我們在第一步中創建的深度緩沖。遮擋查詢將返回通過深度測試的像素數量,如果結果是0就意味著該物體完全被solid mesh遮擋。由於為了深度測試而去把完整的模型渲染一遍的開銷很高,這一步我們渲染模型的包圍盒,而不是原模型,如果該包圍盒不可見(也就是沒通過深度測試),那麼該包圍盒所代棗陸橘表的模型肯定也不可見。
將查詢結果讀回CPU,根據被渲染像素的數量我們決定是否提交模型給GPU渲染(即便是有一小部分像素凳團可見我們也可以不讀渲染這個模型)。
UE4根據具體情況決定使用哪一類遮擋查詢:

硬體遮擋查詢有諸多劣勢,例如有drawcall粒度上的問題,渲染器需要對每一個模型(或者一個模型批次)提交一個drawcall來進行遮擋查詢,這會使得每一幀的drawcall數量顯著上升;還有一個問題是硬體遮擋查詢需要將結果讀回到CPU,這就需要在CPU和GPU之間同步,並且要求CPU一直等待到GPU完成查詢處理的時刻。這對instanced物體並不友好,但在這里我們先忽略這個問題。

對於CPU與GPU間的同步問題,UE4使用和其他引擎類似的方法:將CPU對數據的讀回操作延遲幾幀進行。這個方法大部分情況下可行,但在攝像機高速移動的時候可能會導致物體的突然出現(pop in)(實踐中這不是個大問題,因為物體在遮擋剔除時使用包圍盒來計算遮擋,這一步是保守,即便完全不可見的物體也可能被標記為可見)。額外的drawcall開銷依然存在,但這個問題也是可以解決的。UE4通過以下方法來減輕這個問題的影響:

首先所有物體會被渲染到深度緩沖。(也就是之前提到的這一過程)
對於所有需要遮擋測試的物體向GPU提交一個遮擋查詢請求。
在每一幀的最後,CPU從前一幀(或者更加前面的幀)讀回物體的可見性結果。如果物體是可見的就將物體標為在下一幀需要渲染。對於不可見的物體,將其加入一個「分組」的查詢中,該查詢會以批次提交最高8個物體的包圍盒組,測試這些物體在下一幀是否可見。
如果整個分組在下一幀變為可見,那麼再將整個組重新分離為獨立的遮擋查詢並提交。
如果相機和物體是靜止的(或者緩慢移動),這一優化會將必要的遮擋查詢數量減少8倍。唯一一個我注意到的奇怪地方是被遮擋物體的批次查詢組合方式似乎是隨機的,而不是基於物體在空間上的距離。

這一步對應於上圖中的IndivialQueries和GroupedQueries標記。GroupedQueries在這一幀是空的,因為UE4沒有在前一幀中找到任何需要這一操作的物體。

在整個遮擋剔除pass的最後,ShadowFrustumQueries提交所有針對本地光源(local light,也就是點光源或者聚光燈)的包圍盒的遮擋查詢(無論光源是否投影都會提交,和這一步的名字所表達的意思不同),如果某個光源被完全遮擋住了那麼就沒必要去對該光源進行任何光照/投影計算。值得注意的是我們的示例場景中有4個點光源(每一幀每個光源都需要計算shadowmap),但是ShadowFrustumQueries這一步提交的查詢數量為3。我猜測這是因為其中一個光源的包圍盒和相機近裁面相交,因此UE4認為該光源必然可見。另一點值得一提,對於一個需要計算cubemap shadowmap的動態光源,UE4會提交一個球體來進行遮擋測試。

對於需要計算逐物體陰影的靜態(static)動態光源(之後會有更詳細的介紹),UE4會提交一個視錐體來進行遮擋檢測:

最後對於PlanarReflectionQueries這一步,我估計是指用於計算平面反射(planar reflection)的遮擋剔除計算(方法是將相機變換到渲染平面之後/之下在重新繪制物體)。

Hi-Z緩沖的生成
接下來,UE4會創建一個Hi-Z緩沖(passes HZB SetupMipXX),存儲格式為16位浮點數(R16_Float)。這一步將Z-prepass階段得到的深度緩沖作為輸入創建一個深度值的mipmap鏈(mipmap chain)。這一步還會將深度重新采樣為解析度大小為2的冪次數的紋理,這樣用起來更方便。

之前提到,由於UE4使用reverse-Z,pixel shader在降采樣時使用最小值操作符(譯者註:也就是指每次降采樣時選取鄰域內深度值最小的像素輸出到下一個mipmap)。

陰影的渲染
接下來一步是陰影計算render pass(ShadowDepths)。

在這個場景重我添加了一個固定光源的平行光(stationary directional light),兩個可移動(movable)的點光源以及一個靜態(static)的點光源。所有光源都會計算陰影。

對於固定光源(stationary light),渲染器會為靜態物體烘焙陰影,並只為動態物體計算動態陰影。對於可移動的光源每一幀都需要為所有物體計算陰影(完全動態)。最終對於靜態光源(static light)其陰影會被烘焙入光照貼圖(lightmap),所以這些陰影在渲染中不會出現。

對於平行光我添加了分三個層級的級聯陰影(cascaded shadowmaps),以觀察UE4是怎麼處理這個功能的。UE4創建了一個3x1的格式為R16_TYPELESS的紋理(每行3個tile,每層陰影一個),每一幀清除一次(意味著每一幀所有層都要更新,而不會有隔幀更新之類的優化)。隨後,在Atlas0 render pass中所有物體會被渲染進對應的陰影tile中。

從上面的drawcall列表可看出只有Split0需要渲染一些物體,其他塊是空的。陰影在渲染時無需pixel shader,這能使得陰影的渲染速度翻倍。值得注意的是無論平行光是靜止的還是動態的,渲染器會將所有物體(包括靜態物體)都渲染到陰影貼圖中。

接下來是Atlas1 render pass,這一步將渲染所有固定點光源(stationary light)的陰影。在我的場景中只有那塊岩石模型被標記為動態物體。對於固定光源(stationary light)和動態物體,UE4使用逐物體陰影貼圖,保存在一個紋理圖集(texture atlas)中,意味著對於每一個光源,每一個物體都會渲染一個shadowmap。

最後,對於動態光源,UE4使用傳統的立方體陰影(cubemap shadowmap,在CubemapXX passes中),使用一個geometry shader來選擇要渲染到cubemap的哪個面上(以減少draw call)。在這一步只渲染動態物體,所有靜態/固定物體會被緩存起來。CopyCachedShadowMap這一步會把陰影緩存復制進來,然後在此之上渲染動態物體的陰影深度。下圖是一個動態光源的立方體陰影緩存中一個面的內容(CopyCachedShadowMap這一步的輸出)

這是渲染了動態物體(石頭)後的結果:

靜態物體的陰影緩存不會再每一幀重新生成,因為渲染器知道(我們場景中的)這一光源沒有移動(盡管被標記為動態光源)。如果光源移動了,渲染器會在每一幀渲染動態物體前把所有靜態物體重新繪制入陰影緩存中(這一步我在另一個測試中證實):

唯一一個靜態光源(static light)完全沒有出現在drawcall列表中,意味著這個光源不會影響動態物體,只會通過光照貼圖去影響靜態物體。

在本文最後提個建議,如果在你的場景中有固定光源(stationary light)請確保在編輯器中測試性能前烘焙光照(我不確定在standalone模式下運行時是否需要這樣),如果不烘焙的話UE4會將它當做動態光源並渲染立方體陰影,而不是逐物體陰影。

在下一篇中我們會繼續探索UE4的渲染流程,考察light grid生成,G-prepass和光照這些渲染步驟。

❸ 虛幻4怎麼渲染出圖

頂點著色器?光柵化器?G緩沖區?像素著色器(照明和陰影等)?後期處理。虛幻引擎4是一種游戲引擎,游戲引擎就像是游戲的發動機,好的游戲引擎能夠讓游戲開發事半功倍慶鬧。虛幻引擎4是一套為使用實時技術的人士開發的完整開發工具。它的局橘渲染出圖步驟是頂點著色器?光桐差團柵化器?G緩沖區?像素著色器(照明和陰影等)?後期處理。

❹ Ue4虛幻4引擎做過場動畫渲染出來模糊且視頻速度慢

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❺ ue4怎麼渲染

虛幻引擎在FEngineLoop::PreInit中對渲染線程進行初始化。使用ue4渲染慢卡頓可以藉助雲桌面來完成渲染。
渲染線程的啟動位於StartRenderingThread全局函數中。
創建渲染線程類實例
通過FRunnableThread::Create函數創建渲染線程
等待渲染線程准備好,從TaskGraph取出任務並執行
注冊渲染線程
創建渲染線程心跳更新線程
渲染線程的主要執行在全局函數RenderingThreadMain中,游戲線程會藉助EQUEUE_Render_COMMAND宏,向渲染線程的TaskMap中添加渲染任務。渲染線程則不斷的提取這些任務去執行。
這里需要注意,渲染線程並非直接向GPU發送指令,而是將渲染命令添加到RHICommandList,也就是RHI命令列表中。由RHI線程不斷取出指令,向GPU發送。並阻塞等待結果。此時,RHI線程雖然阻塞,但是渲染線程依然正常工作,可以繼續處理向RHI命令列表填充指令,從而增加CPU時間的利用率,避免渲染線程憑空等待GPU的處理。
渲染架構
虛幻引擎對於場景中所有不透明物體的渲染方式,是延遲渲染
對於半透明物體的渲染方式,是前向渲染
在虛幻引擎中,先進行延遲光照計算不透明物體,然後藉助深度排序,計算半透明物體。
FDeferedSceneRender::Render函數
1、初始化視口 InitViews
進行必要的可見性剔除。分為三步:預設置可見性,可見性計算,完成可見性計算。
預設置可見性 PreVisibilityFrameSetup
1.根據當前畫質,設置TemporalAA的采樣方式,同時確定采樣位置。采樣位置用來微調視口矩陣。TemporalAA采樣,每一幀渲染的時候,讓這個像素覆蓋的位置進行微弱的偏移,然後混合前面幾幀的渲染結果。
2.設置視口矩陣,包括視口投影矩陣和轉換矩陣。
可見性計算 ComputeViewVisibility
1.初始化用於可視化檢測的緩沖區,位數組,用0和1表示是否可見。翻譯為點陣圖BitMap
2.視椎體剔除,對應函數FrustumCull,該函數內部使用ParallelFor函數的線性剔除,進行並行化的非同步剔除。
3.遮擋剔除
4.根據可見性點陣圖,設置每個需要渲染對象的可見性,即Hidden flags
5.開發者控制對象可見
6.獲取所有對象的渲染信息,對應函數是每個RenderProxy的GetDynamicMeshElements函數。
網格物體組件對應的容器是RenderProxy,材質對象的容器是MaterialRenderProxy
完成可見性計算 PostVisibilityFrameSetup
1.對半透明的對象進行排序。半透明對象的渲染由於涉及互相遮擋,必須按照從後往前的順序來渲染。
2.對每個光照確定當前光照可見的對象列表
3.初始化霧與大氣的常量值。
4.完成對陰影的計算。包括對覆蓋整個世界的陰影,對固定光照的級聯陰影貼圖和對逐對象的陰影貼圖的計算。
虛幻引擎的剔除方式是藉助ParallelFor的線性剔除,並行化的線性結構剔除在性能上優於基於樹的剔除。
2、PrePass 預處理階段
降低Base Pass的渲染工作量。通過渲染一次深度信息,如果某個像素點的深度不符合要求,這個像素點就不會進行工作量最大的像素渲染器計算。
不是基於分塊的GPU,渲染器的EarlyZPassMode參數不為DDM_None,或GEarlyZPassMovable不為0,才會進行PrePass計算。
對象的渲染按照設置渲染狀態,載入著色器,設置渲染參數,提交渲染請求,寫入渲染目標緩沖區的步驟進行。
設置渲染狀態 SetupPrePassView
關閉顏色寫入,打開深度測試與深度寫入。PrePass不需要計算顏色,只需要計算每個不透明物體像素的深度。
渲染靜態數據
三個繪制列表由靜態模型組成,通過可見性點陣圖控制是否可見。
只繪制深度的PositionOnlyDepthDrawList
主要繪制不透明物體的DepthDrawList
帶蒙版的深度繪制列表MaskedDepthDrawList,蒙版對應材質系統中的Mask類型
渲染動態數據
通過ShouldUseAsOccluder函數詢問Render Proxy是否被當做一個遮擋物體,是否為可移動,決定是否需要在這個階段繪制。
寫入渲染目標緩沖區
通過RHI的SetRenderTarget設置。
TStaticMeshDrawList::DrawVisible函數
繪制可見對象
繪制可見對象的基礎是可見對象列表,在繪制之前,每個繪制列表已經進行了排序,盡可能共用同樣的繪制狀態。
每個繪制列表都共用以下著色器狀態,區別只是在於具體參數不同:
頂點描述 Vertex Declaration
頂點著色器 Vertex Shader
殼著色器 Hull Shader
域著色器 Domain Shader
像素著色器 Pixel Shader
幾何著色器 Geometry Shader
載入公共著色器的信息 SetBoundShaderState 和SetSharedState
SetBoundShaderState 載入需要的著色器
SetSharedState 對於TBasePass,設置頂點著色器和像素著色器的參數。
逐元素渲染
1.對於每個DrawingPolicy調用SetMeshRenderState函數,設置渲染狀態。包括調用每個著色器的SetMesh函數,以設置與當前Mesh相關的參數
2.調用Batch Element的DrawMesh函數,完成繪制。調用RHICmdList的DrawIndexedPrimitive函數,指定頂點緩沖區和索引緩沖區的位置。
3、BasePass
極為重要的階段,通過對逐對象的繪制,將每個對象和光照相關的信息都寫入到緩沖區中。
BasePass和PrePass的過程非常接近,分為設置渲染狀態,渲染靜態數據和渲染動態數據。
設置渲染狀態
1.如果PrePass已經寫入深度,則深度寫入被關閉,直接使用已經寫入的深度結果。
2.通過RHICmdList.SetBlendState,打開前4個渲染目標的RGBA寫入。TStaticBlendStateWriteMask用模板參數定義渲染目標是否可寫入,最高支持8個渲染目標。
RHICmdList.SetBlendState(TStaticBlendStateWriteMask<CW_RGBA, CW_RGBA, CW_RGBA, CW_RGBA>::GetRHI());
3.設置視口區域大小。這個大小會因為是否開啟InstancedStereoPass而有所變化。
渲染靜態數據
如果PrePass已經進行深度渲染,那麼會先渲染Masked蒙版對象,然後渲染普通不透明對象。否則,先渲染不透明對象,再渲染蒙版對象。
渲染動態數據
與PrePass基本相同
BasePass採用MRT(Multi_Render Target)多渲染目標技術,從而允許Shader在渲染過程中向多個渲染目標進行輸出。
渲染目標來自哪裡?
渲染目標由當前請求渲染的視口(Viewport)分配,對應FSceneViewport::BeginRenderFramw函數。
如何寫入?輸出到何處?
並沒有在C++代碼中,而是在Shader著色器代碼中。打開Engine/Shader/BasePassPixelShader.usf文件,大體過程:
通過GetMaterialXXX函數,獲取材質的各個參數,比如BaseColor基本顏色,Metallic金屬等。
然後,填充到GBuffer結構體中
最後,通過EncodeGBuffer函數,把GBuffer結構體壓縮、編碼後,輸出到SV_Target。
RenderOccusion渲染遮擋
虛幻引擎的遮擋計算,實質上是在PrePass中直接進行基於並行隊列的硬體遮擋查詢。除非在r.HZBOcclusion這個控制台變數被設置為1的情況下,或者有些特效需要的情況下,才會開啟Hierarchical Z-Buffer Occlusion Culling 作用遮檔查詢。
全平台默認關閉
總體來說,這個步驟是為了盡可能剔除處於屏幕內但是被其他對象遮擋的對象。在視口初始化階段,剔除了處於視錐體之外的對象。但是依然有大量對象處於視錐體內,卻被其他對象遮擋。比如一座山背面的一大堆石頭,這些石頭能夠正常通過我們的視錐體遮擋測試,卻並不需要渲染。
因此, HZB渲染遮擋技術被用於解決這個問題,通常的HZB步驟如下:
(1)預先准備屏幕的深度緩沖區,這個緩沖區將會作為深度測試的基礎數據。因此,這個步驟必須在PrePass之後,如果沒有PrePass,則必須在BasePass 之後。
(2)逐層創建緩沖區的Mipmap級聯貼圖。層級越高,貼圖解析度越低,對應的區域越大。而每個層級對應這個區域「最遠」元素到屏幕的距離(深度最大值)。
(3)計算所有需要進行測試的對象的包圍球半徑,根據這個半徑,選擇對應的深度緩沖區層級進行深度測試,判斷是否被遮擋。這個的用意在於,如果對象較大,我們可以直接用更高的層級進行測試,這個對象的深度若比這個層級對應的距離還遠,那麼該對象一定被遮擋,因為層級對應的是這一片區域中可見元素的最遠距離。
需要注意的是, OpenGL平台下不會進行這個測試。這個步驟中的第二步可以使用像素著色器多次繪制完成級聯貼圖層級,第三步則可以使用計算著色器ComputeShader,或者使用頂點著色器進行計算,將結果寫入到一個渲染目標中。從而藉助GPU的高度並行化來加速這個遮擋剔除過程。
這個步驟輸出的結果會被用於下一幀計算,而不是在本幀。
光照渲染
對應函數RenderLights,光照渲染與陰影渲染是分離的,陰影渲染是在視口初始化階段完成的,光照渲染大體步驟如下:
收集可見光源。對可見性的判斷,利用視口初始化階段保存的VisibleLightInfos信息,以當前Id查詢即可獲得結果。對每個光源構建FLightSceneInfo結構,然後通過ShouldRenderLights對光源是否需要渲染進行計算。
對收集好的光源進行排序。將不需要投射陰影、無光照函數的光源排在前面。
如果是TiledDeferredLighting,則通過RenderTiledDeferredLighting對光照進行計算。如果是PC平台,使用RenderLight函數進行光照計算。
如果平台支持Shader Model 5,則會計算反射陰影貼圖與PLV信息。
核心光照渲染RenderLight函數
每個光源都會調用這個函數,遍歷所有視口,計算光照強度,並疊加到屏幕顏色上。
1. 設置混合模式為疊加
2. 判斷光源類型
平行光源
載入延遲渲染光照對應的頂點著色器(TDeferredLightVS)和像素著色器(TDeferredLightPS)
設置光照參數
繪制一個覆蓋全屏幕的矩陣,調用著色器。
非平行光源
判斷攝像機是否在光源范圍內
如果是,關閉深度測試,從而避免背面被遮蓋部分不進行光照渲染
否則,打開深度測試,以加速渲染
載入著色器
設置光照參數
根據是點光源還是聚光燈,繪制一個對應的幾何體,從而排除幾何體外對象的渲染,加速光照計算。
ShaderMap
頂點工廠:負責抽象頂點數據以供後面的著色器獲取,從而讓著色器忽略由於頂點類型造成的差異。
當前著色器繼承自FMaterialShader,則對每個材質類型編譯出一組對應渲染管線的著色器
當前著色器繼承自FMeshMaterialShader,則對每個材質類型的每個頂點工廠類型編譯出一組頂點著色器和像素著色器。
通過GetMaterialXXX,可以獲取材質的參數。
資訊來自網路

❻ UE4 定序器渲染完後會很卡

這有很多種原因。
原消彎因有以下幾種:
1、DrawCall太多。UE自帶的MergeActor(建議別用)。instancedStaticMesh工具,商城有賣。老老實實做LOD。合並材質。
2、燈光復雜。DirectionalLight)<點光源(PointLight)<聚光燈(SpotLight)燈光重疊的部分要多注意。(開啟MDF靜態網格距離場)會產生黑斑。
3、basspass過高(材質復雜度)。材質能合並就合並。貼圖的大小,以及采樣的次數罩團。材質編輯器里的節點。有些節點是比較耗的,比如sin、pow、cos、拿悶悶divide、Noise等,比較省的就是加減乘除clamp。opauqe>mask>transulant.透明的消耗巨大,同理指數級霧也少用。
4、後期框。TICK濫用。引用過多。連用高消耗的藍圖節點。循環濫用。

❼ ue4渲染出來的視頻很暗模糊

在渲染設置面板中,提高渲染出圖的解析度,在渲染面板中抗鋸齒模式改為Catmull-Rom。在貼圖中,把貼圖面板下面的這個Blur(模糊)值,默認是1.0,修改為0.1,圖片就會清晰很多,這個值越大越模糊。所以要選擇合適的數值,這樣視頻就不模糊了。渲染的作用主要是能夠保證使用者在編輯時更流暢,如果設備硬體設備足夠強的話,根本就不用渲染,所以導出影片之前不是一定要渲亮禪染的。渲染是在時間線上生成適時的視頻預覽以便在監視窗流暢播放,這是為了那些電腦配置很敬旁塵差的人不能按空格啟銷直接在時間線預覽而設計的。

❽ UE4遠景刷的樹渲染不出來

1、首先檢知備查陵羨粒子LOD設置、修改Bounds大小。
2、在藍圖中找到搭汪毀UseAttachParentBound打勾或縮放邊界BoundsScale就可以了。

❾ UE4 卡通渲染要點(後期處理方式)

由於UE4對multi-pass支持不好,如果要兩個臘掘裂pass實現描邊的話,得是兩個材質,兩個模型疊一起

還有另外一種方式是後期處理方式,用邊緣檢測的方法,用個卷積核處理一遍散弊深度圖,就能得到邊緣,輪閉在對深度過濾下能對遠處的不進行顯示,最後得的線核幀融合用Lerp,這樣有線條顯示線條,沒有的顯示原來的像素。

❿ ue4movie render 渲染不出靠近相機的樹

特效靠近攝影機不顯示或者是場景內不顯示一般有一下情況。
1、遮擋邊界處設置了粒子邊界,改成無就可以了。
2、粒子設置了攝影機偏移,這個設置之後太靠近攝影機就不會顯示。
拓展資料:
UE4不僅涉及主機游戲、PC游戲、手游等游戲方面,還涉及高精度模擬,戰略演練,工況模擬,可視化鋒衡態與設計表現,無人機巡航等諸多領域。
雖然游戲的IP不是一款引銀源擎能夠左右的,但一個決定性要素:畫面,卻必須依靠虛幻4這樣過硬的引擎作為支持,這也必定是未來的發展趨勢,也是如攔侍今人才缺口大的重要原因之一。

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